中国光刻机技术取得重大突破，迈向高精度制造新时代

中国光刻机技术取得最新突破，迈向高精度制造新时代。这一重要进展为中国半导体产业的发展注入了新的动力。该突破涉及光刻机的核心技术和性能，提高了制造精度和效率，有望推动国内半导体产业实现更高水平的自主创新。这一技术的突破...

阅读全文 福州新闻网 1184 次浏览 2024-12-20 售后中心